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詳細(xì)摘要： JY-S100 PLUS離子濺射儀（噴金儀）是一款桌上型冷態(tài)磁控濺射鍍膜系統(tǒng)，標(biāo)配旋轉(zhuǎn)傾斜樣品臺(tái)，特別適用于各種表面形貌的非導(dǎo)電樣品在掃描電鏡成像中的高質(zhì)量鍍膜，也可滿足電極鍍膜，半導(dǎo)體等材料鍍膜的要求。

詳細(xì)摘要： Y-S100噴金儀是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌面小型磁控鍍膜系統(tǒng)，特別適用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品高質(zhì)量鍍膜。在掃描電子顯微鏡（SEM）樣品制備中，JY-S100噴金儀在不同類(lèi)型的樣品，如生物標(biāo)本和材料樣品制備中發(fā)揮著至關(guān)重要的作用。

詳細(xì)摘要： 輝光放電儀用于TEM銅網(wǎng)和支持膜清洗及表面處理，可改善親水性和疏水性。適用于經(jīng)常需要清洗銅網(wǎng)和支持膜，或需要大批量清洗的實(shí)驗(yàn)室。

詳細(xì)摘要： QuickGlow輝光放電儀是經(jīng)濟(jì)實(shí)惠、易于使用、放電穩(wěn)定的一款國(guó)產(chǎn)輝光放電儀，其常見(jiàn)的應(yīng)用之一是用于TEM載網(wǎng)表面的親水化處理，使得極性懸浮液在載網(wǎng)上更容易擴(kuò)散，減少顆粒團(tuán)聚，提高染色劑的附著效果，使樣品的對(duì)比度更高，圖像更清晰，便于分析。

詳細(xì)摘要： PELCO精密研磨裝置適合在金相試樣、單晶片、電子材料、玻璃、巖石或其他材料樣品上制備平面、平行面等高度拋光的表面。研磨硬質(zhì)材料時(shí)，先用環(huán)氧樹(shù)脂等包埋樣品，可以避免圓角或過(guò)度拋光，特別適用于手工磨拋半導(dǎo)體、光學(xué)元件，以及凹坑前TEM樣品的減薄。PELCO研磨裝置可用于研磨直徑3mm至25mm、厚度不超過(guò)13mm的樣品。

詳細(xì)摘要： 廣州競(jìng)贏離子濺射儀全國(guó)誠(chéng)招代理廣州競(jìng)贏成立于2007一直以來(lái)專(zhuān)業(yè)從事代理和銷(xiāo)售國(guó)內(nèi)外品牌的各類(lèi)電鏡耗材及電鏡附屬設(shè)備，客戶涉及高校、科研院所、企業(yè)、政府部門(mén)等多個(gè)領(lǐng)域。憑借著優(yōu)異的產(chǎn)品和服務(wù)為廣州市公安局、廣東醫(yī)附院、復(fù)旦大學(xué)、華南理工大學(xué)、中山大學(xué)、電子五所、哈爾濱工業(yè)大學(xué)、貴州大學(xué)等等國(guó)內(nèi)各地域客戶建立起良好的供銷(xiāo)關(guān)系。

詳細(xì)摘要： PELCO easiGlow輝光放電清潔儀是一套價(jià)格合理、結(jié)構(gòu)緊湊、使用方便的系統(tǒng)，用于TEM銅網(wǎng)和支持膜清洗及表面處理。如親油性的TEM碳支持膜經(jīng)氣體輝光放電處理后，表面帶負(fù)電而呈親水性，水溶液因此容易被分散。

詳細(xì)摘要： 此款小型離子濺射鍍膜儀主要用于掃描電子顯微鏡樣品鍍覆導(dǎo)電膜（金膜），儀器操作簡(jiǎn)單方便，是配合SEM 制樣*的儀器。設(shè)備配有微量充氣閥調(diào)節(jié)工作真空，在 20Pa 真空保護(hù)。同時(shí)，配有進(jìn)氣口和微量充氣調(diào)節(jié)裝置，以方便空氣或氬氣等工作氣體充入。

詳細(xì)摘要： PELCO Tripod Polisher 590由IBM East Fishkill實(shí)驗(yàn)室的研究人員設(shè)計(jì)，以準(zhǔn)確地制備預(yù)先的微米尺度區(qū)域的透射電鏡和掃描電鏡樣品。對(duì)于TEM樣品，該技術(shù)已成功地用于將離子研磨時(shí)間限制在15分鐘以內(nèi)，并且在某些情況下，消除了離子研磨的需要。

詳細(xì)摘要： Sanyu 離子濺射儀SC-701MKll是一款結(jié)構(gòu)緊湊的桌上型鍍膜系統(tǒng)，特別適用于電極鍍膜，也可用于掃描電鏡成像中非導(dǎo)電樣品鍍膜。

詳細(xì)摘要： NLS-AT 全自動(dòng)振動(dòng)切片機(jī)是一款全自動(dòng)振動(dòng)切片機(jī)，其底盤(pán)采用全新的設(shè)計(jì)，引入了減震基座，其機(jī)身也由塑料改為不銹鋼體，以盡可能的消除由于共振而產(chǎn)生的異常振動(dòng)。有了這些改進(jìn)，Neo LinearSlicer 可以切出比以往更薄、更高質(zhì)量的切片。

詳細(xì)摘要： 脈沖激光沉積系統(tǒng)PLD：脈沖激光沉積（Pulsed Laser Deposition）是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。

詳細(xì)摘要： ALD R-200原子層沉積系統(tǒng)：高質(zhì)量ALD薄膜的沉積技術(shù)，并在各種各樣的襯底上都表現(xiàn)的均勻性，包括挑戰(zhàn)性的通孔的、超高深寬比和顆粒等樣品。

詳細(xì)摘要： 多參數(shù)表面等離子體共振分析儀MP-SPR Navi 200 OTSO：半自動(dòng)MP-SPR Navi™ 200 OTSO。開(kāi)放式設(shè)計(jì)非常適合用于教學(xué)目的、氣體測(cè)量、薄膜表征以及使用輔助設(shè)備。

詳細(xì)摘要： 該渦旋器小巧、經(jīng)濟(jì)、實(shí)用，適合電鏡樣品的組織滲透過(guò)程。轉(zhuǎn)速緩慢，大約為10轉(zhuǎn)/分鐘。含12個(gè)孔位，可放置直徑大至30mm的瓶子。尺寸： 底座： 10.2 x 15.6cm （4 x 6-1/8“） 渦旋頭： （產(chǎn)品編號(hào)1058） 15.9cm（直徑）x 2.7cm（高），12個(gè)孔位 （32mm ø）

詳細(xì)摘要： 產(chǎn)品編號(hào)描述單位8702PELCO®玻璃刀制刀機(jī)臺(tái)8702-3制刀機(jī)切輪個(gè)8702-4制刀機(jī)斷裂墊個(gè)